【技術(shù)文章】非連續(xù)金屬薄膜的導(dǎo)電性質(zhì) 2014-08-11

非連續(xù)薄膜指薄膜尚處于小島階段，一般厚度低于5nm即為非連續(xù)薄膜。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明非連續(xù)薄膜導(dǎo)電性的主要特點(diǎn): (1)非連續(xù)薄膜的電阻率(或方塊電阻)比連續(xù)薄膜以及塊狀材料都高得多; (2)非連續(xù)薄膜的電阻與溫度關(guān)系和連續(xù)薄膜的完全不同，它具...

【技術(shù)文章】薄膜的電學(xué)性質(zhì) 2014-08-04

薄膜的電學(xué)性質(zhì)，如電阻率、電阻溫度系數(shù)、介電常數(shù)等及其與膜厚、外加電場(chǎng)、環(huán)境溫度等的關(guān)系直接決定了薄膜在各種實(shí)際應(yīng)用中的性能。金屬薄膜、介質(zhì)薄膜、半導(dǎo)薄膜和超導(dǎo)體薄膜的電學(xué)性質(zhì)都不一樣。

【技術(shù)文章】什么是維氏硬度計(jì) 2014-07-31

維氏硬度計(jì)是以金剛石壓入試樣后，用所得壓痕對(duì)角線的長(zhǎng)度值(單位一般為微米)進(jìn)行計(jì)算而求得硬度值的。金剛石壓頭的形狀是一四方角錐體，錐面夾角為1360，它的壓痕是一個(gè)壓下去的四方角錐體。對(duì)于薄膜來(lái)說(shuō)，過(guò)深的壓痕其形變的影響范圍有可能達(dá)到基片，這時(shí)測(cè)得硬度就不準(zhǔn)...

【技術(shù)文章】薄膜的硬度測(cè)試 2014-07-25

物質(zhì)的硬度定義為一種物質(zhì)相對(duì)于另一物質(zhì)的抗摩擦性或抗刻劃性的能力。例如氮化欽薄膜蒸鍍?cè)邶X輪或刀具的表面，可以延長(zhǎng)它們的壽命，硬度極高、耐腐蝕性極好、透光性能優(yōu)良的類金剛石膜可用于光學(xué)器件、太陽(yáng)能電池的表面保護(hù)。 硬度試驗(yàn)方法多種多樣，現(xiàn)在最常用的是...

【技術(shù)文章】?jī)?nèi)應(yīng)力的測(cè)量方法-X射線衍射法 2014-07-23

用X射線衍射法可以測(cè)量出薄膜結(jié)構(gòu)的面間距，將測(cè)量值與材料的標(biāo)準(zhǔn)面間距相比可以求出薄膜的應(yīng)變，從而求出薄膜的內(nèi)應(yīng)力。為了使衍射峰不過(guò)于彌散，薄膜的厚度至少要數(shù)十納米以上。圖退火前后金剛石薄膜的X射線衍射圖。由圖可見(jiàn)，薄膜各晶面在退火前的峰位要大于退火后薄膜對(duì)應(yīng)...

【技術(shù)文章】?jī)?nèi)應(yīng)力的測(cè)量方法-彎盤(pán)法 2014-07-21

彎盤(pán)法的基本原理與懸臂梁法相同，也是利用基片的形變測(cè)定內(nèi)應(yīng)力的。所不同的是基片為圓形，在沉積薄膜前后測(cè)量基片的曲率半徑Rl和R2，然后根據(jù)下式計(jì)算出薄膜中的內(nèi)應(yīng)力。 為了保證測(cè)試系經(jīng)有較高的靈敏度，需要選用合適的基片和檢測(cè)方法?，F(xiàn)在常用的...

【技術(shù)文章】?jī)?nèi)應(yīng)力的測(cè)量方法-懸臂梁法 2014-07-18

內(nèi)應(yīng)力測(cè)量方法大體上可分為兩類，即機(jī)械法和衍射法。機(jī)械法測(cè)量基片受應(yīng)力作用后彎曲的程度，衍射法則測(cè)量薄膜晶格常數(shù)的畸變。在這兩大類中又分別有許多不同的方法，下面簡(jiǎn)單介紹幾種常用的方法。 一、懸臂梁法 將薄膜沉積在基片上，基片受到...

【技術(shù)文章】附著力測(cè)試的直接法 2014-07-09

如果薄膜的附著力很強(qiáng)，即使粘結(jié)面被剝離而薄膜仍然附著，就要將力直接加到薄膜上使其剝離基片，這類測(cè)量附著力的方法稱為直接法。直接法中有劃痕法、摩擦法、離心法等。此處著重介紹常用的劃痕法。 劃痕法直接測(cè)量附著力的原理如圖7一4所示。將一根硬針的*垂直...

【技術(shù)文章】薄膜的附著現(xiàn)象 2014-07-03

薄膜在基片表面上的附著，是范德華力、擴(kuò)散附著、機(jī)械鎖合、靜電引力等多種因素綜合作用的結(jié)果。如薄膜材料與基片形成化合物，化學(xué)鍵力成為主要的附著作用力。薄膜的附著力可分為簡(jiǎn)單附著、擴(kuò)散附著、通過(guò)中間層附著和宏觀效應(yīng)附著等四種類型。

【技術(shù)文章】薄膜的附著力 2014-07-02

薄膜在基片上的附著性能決定了薄膜應(yīng)用的可能性和可靠性。附著的定義為:薄膜與基片保持接觸，兩者的原子互相受到對(duì)方的吸附作用的狀態(tài)。把單位面積的薄膜從基片上準(zhǔn)靜態(tài)地剝離下來(lái)所需的力為附著力，所需要的能量為附著能。